关于离子气相沉积(IVD)铝涂层磁铁

铝涂层是一种理想的表面处理方法狗万 从耐腐蚀和机械强度的角度。铝镀层与烧结钕铁硼磁基之间的电位差较低,有利于防止电化学腐蚀。铝涂层在大气条件下进一步形成均匀致密的耐腐蚀层。铝涂层的腐蚀产物也属于无毒物质。此外,通过随后的阳极或电解着色,可以进一步提高铝涂层的耐蚀性、色泽和耐磨性。烧结钕铁硼的镀铝工艺是利用我国新开发的离子气相沉积(IVD)技术麦道公司为美国空军效力铝镀层的初衷是取代历史上的镉镀层。铝涂层磁铁通常用于特定的高端应用。

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离子气相沉积(IVD)镀铝磁体的制造工艺

将铝丝送入电阻式热源,利用高强度直流电流蒸发。热铝蒸气冷凝在烧结钕磁体表面形成铝涂层,从而逐渐达到规定的厚度。

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特征离子气相沉积(IVD)铝涂层磁铁

  1. 外观:亮银色。
  2. 涂层厚度:10 - 30μm。
  3. 盐雾测试:超过100小时。
  4. 温度和潮湿。:超过500小时。
  5. PCT和hst:超过200小时。
  6. 工作温度:小于400摄氏度。

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离子气相沉积(IVD)铝涂层磁体的优点

  1. 厚度均匀性好。
  2. 耐高温。
  3. 涂层过程中无氢脆。
  4. 优越的防腐能力。
  5. 无松散白锈形成。
  6. 铝涂层具有优异的粘接性能。
  7. 铝涂层的出气性很低,在真空应用中效果很好。

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